技術特徴

技術特徴 — 高周波熱プラズマが選ばれる理由

■ 高周波誘導による “電極レス・超クリーン処理”

RF誘導熱プラズマは、 電極を使用しない非接触型プラズマであることが最大の特徴です。

✔ 電極コンタミがゼロ
粉末に電極由来の金属が混入しないため、 半導体材料や航空宇宙材料でも求められる 極めて高い純度を維持できます。

✔ 高エネルギー密度 × 広い高温領域
プラズマ内部は 10,000〜20,000 K に達し、 粉末全体を均一に加熱・溶融できます。

→ 不均一粒、破片状粒子が減少し、粒度分布が整う。

■ 球状化効率が高く、流動性が劇的に向上

熱プラズマは粉末を瞬時に溶融させるため、 表面張力により粉末は自然に 完全に近い球形へと変化します。

✔ 溶融 → 球状化 → 冷却固化 をワンプロセスで

  • 球状度が大幅に改善
  • 表面が滑らかになり、凝集が減少
  • 粉末同士の摩擦が低減 → 流動性向上
  • AM造形時のパッキング密度が向上

特にTi-6Al-4VやNi系合金で顕著。

■ 酸化の抑制:高品質粉末の製造に最適

RF熱プラズマはプラズマカラムが太く、 粉末が “酸素に触れる余地” がほとんどありません。

✔ 酸化皮膜の生成を抑制
✔ 表面の酸素含有量が低い
✔ 再溶融時の欠陥(スパッタ・気孔)も軽減

AM用途では非常に大きな利点。

■ 連続処理が可能で、研究から量産まで対応

粉末を 連続供給・連続回収できるため、 研究開発から小〜中規模の量産までカバーできます。

✔ バッチ処理ではないため、再現性が高い
✔ 製造スケールへの移行がスムーズ
✔ 粉末データの安定化が容易

研究室レベルの分析にも、メーカーの量産ラインにも適用可能。

■ 粒度分布の改善と欠陥低減

熱プラズマ処理後の粉末は:
  • 粒径分布がタイトに
  • 破片状・不定形粒子が減少
  • 空隙の少ない形状へ改善

その結果:

✔ 造形時のパウダーベッド安定性が改善
✔ 造形後の機械特性が向上
✔ プロセスパラメータの最適化が容易に

“粉末の質がAMの品質を決める” 分野で強い武器になります。

■ 幅広い材料に対応(Ti・Ni・Cu・Fe・Si・セラミックス)

誘導熱プラズマは、金属だけでなく セラミックス・複合材・難溶性材料にも利用できます。

  • Ti-6Al-4V
  • Ni系合金(Inconel等)
  • 銅系 F
  • eCr系
  • Si・SiOx
  • Al
  • WC・SiC などの硬材料

✔ 難溶材料の球状化
✔ 表面改質
✔ ナノ・サブミクロン粒子の生成

目的に応じたプロセス調整が可能です。

■ 他方式と比較した圧倒的優位性

表(他社比較+スマホ横スクロール)はタブレット以上のサイズでのみ編集可能です
(実際の公開ページではタブレットサイズ以下で横スクロールが表示されます)
高周波導熱プラズマ
アークプラズマ
プラズマトーチ
汚染
⭐ 電極レスでゼロ
電極摩耗
電極摩耗あり
高温領域
⭐ 広い・均一
局所的
局所的
粒子の均一性
⭐ 高い
中程度
中程度
連続処理
⭐ 可能
困難
可能
高純度材料
⭐ 最適
不向き
不向き
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RF方式は「材料品質を最重視する分野」に特に適しています。

■ RF熱プラズマが導入されている主な分野

  • 航空宇宙材料(Ti合金・Ni合金)
  • AM(3Dプリンティング)
  • 用金属粉末
  • バッテリー材料(Ni系・Si系)
  • 半導体材料(高純度粉末)
  • 触媒
  • 粉末冶金
  • 表面改質用材料

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